





电梯前室压力传感器的概念是什么?
于是设计师便提出了电梯前室压力传感器的概念, 用于检测相应空间余压值, 并通过余压阀控制送风方向, 达到控制余压值的目的。 在我们进行产品研发过程中,根据其功能,我们将它命名为:压差测控器(有的厂家也成为压力或压差控制器) 。因为其一方面源于它的检测功能,而且测量的是两个空间空气压力差值,另一方面, 它还要根据检测的压差值,对旁通阀进行动态调控。因此称它为压力或压差传感器更为贴切。
电梯前室压力传感器芯体材质的性能
目前,电梯前室压力传感器芯体材质品种繁多,下面简单介绍下几种芯体材质的性能 一、单晶硅 硅在集成电路和微电子器件生产中有着广泛的应用,主要是利用硅的电学特性;在MEMS微机械结构中,则是利用其机械特性,继而产生新一代的硅机电器件和装置。硅材料储量丰富,成本低。硅晶体生长容易,并存在超纯无杂的材质,不纯度在十亿分这一的量级,因而本身的内耗小,机械品质因数可高达10^6数量级。设计得当的微活动结构,如微传感器,能达到的迟滞和蠕变、的重复性和长期稳定性以及高可靠性。所以用硅材制作硅压阻电梯前室压力传感器,有利于解决长困扰传感器领域的3个难题——迟滞、重复性及长期漂移。 硅材料密度为2.33g/cm^2,是不锈钢密度的1/3.5,而弯曲强度却为不锈钢的3.5倍,具有较高的强度/密度比和较高的刚度/密度比。单晶硅具有很好的热导性,是不锈钢的5倍,而热膨胀系数则不到不锈钢的1/7,能很好地和低膨胀Invar合金连接,并避免热应力产生。单晶硅为立方晶体,是各向异性材料。许多机械特性和电子特性取决于晶向,如弹性模量和压阻效应等。

多晶硅电阻应变灵敏系数大值的30倍
二、多晶硅 多晶硅是许多单晶(晶粒)的聚合物。这些晶粒的排列是无序的,不同晶粒有不同的单晶取向,而每一晶粒内部有单晶的特征。晶粒与晶粒之间的部位叫做晶界,晶界对其电特性的影响可以通过掺杂原子浓度调节。多晶硅膜一般由低压化学气相淀积(LPVCD)法制作而成,其电阻率随掺硼原子浓度的变化而发生较大变化。多晶硅膜的电阻率比单晶硅的高,特别在低掺杂原子浓度下,多晶硅电阻率迅速升高。随掺杂原子浓度不同,其电阻率可在较宽的数值范围内变化。 多晶硅具有的压电效应:压缩时电阻下降,拉伸时电阻上升。多晶硅电阻应变灵敏系统随掺杂浓度的增加而略有下降。其中纵向应变灵敏系数大值约为金属应变计大值的30倍,为单晶硅电阻应变灵敏系数大值的1/3;横向应灵敏系数,其值随掺杂浓度出现正负变化,故一般都不采用。

化合物半导体材料硅是制作微机电器件和装置的主要材料
四、化合物半导体材料 硅是制作微机电器件和装置的主要材料。为了提高器件和系统的性能以及扩大应用范围,化合物半导体材料在某些专门技术方面起着重要作用。如在红外光、可见光及紫外光波段的成像器和探测器中,PbSe、InAs、Hg1-xCdxTe(x代表Cd的百分比)等材料得到日益广泛的应用。 现以红外探测器为例加以说明。利用红外幅射与物质作用产生的各种效应发展起来的,实用的光敏探测器,主要是针对红外幅射在大气传输中透射率为清晰的3个波段(1-3μm,3-5μm,8-14μm)研制的。对于波长1-3μm敏感的探测器有PbS、InAs及Hg0.61Cd0.39Te;对于波长3-5μm敏感的探测器有InAs、PbSe及Hg0.73Cd0.27Te;对于波长8-14μm敏感的探险测器则有Pb1-xSnxTe、Hg0.8Cd0.2Te及非本征(掺杂)半导体Ge:Hg,Si:Ga及Si:Al等。其中3元合金Hg1-xCdxTe是一种本征吸收材料,通过调整材料的组分,不仅可以制成适合3个波段的器件,还可以开发更长工作波段(1-30μm)的应用,因而备受人们的关注。 须指出的是,上述材料需要在低温(如77K)下工作。因为在室温下,由于晶格振动能量与杂质能量的相互作用,使热激励的载流子数增加,而激发的光子数则明显减少,从而降低了波长区的探测灵敏度。



